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074532-陰離子分析 Dionex氫氧化物EGC淋洗液發生灌

供應數量:992

發布日期:2025/3/28

有效日期:2025/9/28

原 產 地:美國

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淋洗液發生灌

用于陰離子分析的 Dionex™ 氫氧化物 EGC 淋洗液發生灌  

陰離子分析 Dionex氫氧化物EGC淋洗液發生灌

自動生成氫氧化鉀、氫氧化鈉和氫氧化鋰淋洗液。該氫氧化鉀純化柱可提供標準壓力 (ECG III KOH)、高壓 (EGC 500) 和毛細管型高壓(EGC-KOH 毛細管)幾種規格。氫氧化鉀淋洗液可與 氫氧化物選擇性色譜柱(例如 Dionex IonPac AS19、AS18、AS15 毛細管柱)配合使用。

用于陽離子分析的 Dionex 甲磺酸 EGC 淋洗液發生灌 

MSA 純化柱可提供標準壓力 (ECG III MSA)、高壓 (EGC 500) 和毛細管型高壓(EGC-MSA 毛細管)幾種規格。MSA 淋洗液可與 Dionex IonPac CS12A、CS16、CS17、CS18 和 CS19 毛細管柱等配合使用。

用于陽離子分析的 Dionex™ 甲磺酸 EGC 淋洗液發生灌

 

用于陰離子分析的 Dionex™ 氫氧化物 EGC 淋洗液發生灌

通過電解產生碳酸鉀淋洗液。該發生灌能夠與 Thermo Scientific™ Dionex™ 用于分離陰離子的電解 pH 調節器和碳酸鹽淋洗液柱配合使用。碳酸鹽淋洗液可與 Dionex IonPac AS23、AS22 和 AS14A 等柱配合使用。

RFIC-EG 工作原理

帶 Reagent-Free™ IC 淋洗液生成 (RFIC-EG™) 功能的系統通過 Thermo Scientific™ Dionex™ EGC 淋洗液發生灌自動電解生成高純度氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽或甲磺酸 (MSA) 淋洗液。只需為 RFIC-EG 系統提供高純度的去離子水源。

系統會自動生成濃度的淋洗液,既適用于等度方法也適用于梯度方法。也就是說,可以借助等度泵來完成梯度分析。淋洗液通過 Thermo Scientific™ Dionex™ CR-TC 持續再生捕獲柱進行在線純化,并抑制電解直到開始進行檢測,無需準備再生劑。

陰離子分析 Dionex氫氧化物EGC淋洗液發生灌?

RFIC-EG 優點

RFIC-EG 通過避免基線漂移、增加靈敏度、提高分辨率并確保峰積分*,從而獲得出色的分析結果。

  • 提高每日、各系統與各實驗室之間的分析*性和可重現性。
  • 提供始終如一的高穩定性淋洗液濃度
  • 生成高度可重現的結果,并且峰保留時間和面積的變化很小
  • 借助等度泵實現梯度分離

EGC-發生灌和系統兼容性

使用哪種 Thermo Scientific™ Dionex™ EGC 淋洗液發生灌

儀器陰離子陽離子
 梯度或等度氫氧化物 EG等度碳酸鹽 EG等度碳酸鹽/重碳酸鹽 EG梯度或等度 MSA EG
Dionex ICS-2100Dionex EGC III KOH、NaOH+、LiOH+Dionex EGC 500 K2CO3Dionex EGC 500 K2CO3+ EPM 500Dionex EGC III MSA 純化柱
Dionex ICS-5000+Dionex EGC III KOH、NaOH+、LiOH+ 和 EGC 500 KOHDionex EGC 500 K2CO3Dionex EGC 500 K2CO3+ EPM 500Dionex EGC III MSA 純化柱,ECG 500 MSA
Dionex ICS-4000 和 Dionex ICS-5000+ 毛細管Dionex EGC KOH(毛細管)不可用不可用Dionex EGC MSA(毛細管)
Dionex RFC-30 *Dionex EGC III KOH不可用不可用Dionex EGC III MSA

*RFIC-EG 可借助 Thermo Scientific™ Dionex™ RFC-30 控制器用于其他 Dionex IC 系統。

 

訂購信息:

074532
  
 Dionex™ EGC III KOH Potassium Hydroxide Eluent Generator CartridgeTraditional RFIC-EG systems up to 3,000 psi and the Aquion System

 

 

 

 

Custom GroupEluent Generator Cartridges
Eluent Generator Parts and Accessories
LeadTargetGroupxx_ELMS
產品規格Each
Search DisplayFamily
Umbrella BrandThermo Scientific™
適用于Traditional RFIC-EG systems up to 3,000 psi and the Aquion System
流速0.1-3.00mL/min
壓力Maximum: 21 MPa (3000 psi)
溶劑25% methanol
濃度Range: 0.1-100mM
操作For the production of hydroxide eluents
描述Dionex™ EGC III KOH Potassium Hydroxide Eluent Generator Cartridge
魏經理
  • 手機

    13224517959

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